薄膜电阻是通过真空沉积在氧化铝陶瓷基板上形成的铬镍膜,通常只有0.1um厚,仅为厚膜电阻的千分之一,然后通过光刻工艺将该膜蚀刻成一定形状。光刻工艺非常精确,可以形成复杂形状。因此,可以很好地控制薄膜电阻的性能。比如能做更高精度,温漂更小,性能更稳定可靠。
薄膜电阻结构如下图所示:
捷比信薄膜电阻可做0.01%超高精度,1ppm超低温漂系数。可应用在军事设备,航空航天设备,医疗设备,精密仪表,传感器等领域。
薄膜电阻是通过真空沉积在氧化铝陶瓷基板上形成的铬镍膜,通常只有0.1um厚,仅为厚膜电阻的千分之一,然后通过光刻工艺将该膜蚀刻成一定形状。光刻工艺非常精确,可以形成复杂形状。因此,可以很好地控制薄膜电阻的性能。比如能做更高精度,温漂更小,性能更稳定可靠。
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